Metal oxide morphology in argon-assisted glancing angle deposition

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DOITrouver le DOI : http://doi.org/10.1116/1.3687204
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
TypeArticle
Titre de la revueJournal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
ISSN0734-2101
Volume30
Numéro2
Numéro d'article21507
SujetArgon flux; Beam geometry; Birefringent thin films; Columnar architectures; Deposition process; Film density; Film materials; Glancing Angle Deposition; Metal oxides; Nanoscale films; Thin-film deposition technique; Tilt angle; Vapor fluxes; Metallic compounds; Photonic crystals; Specific surface area; Morphology
RésuméGlancing angle deposition (GLAD) is a thin film deposition technique capable of fabricating columnar architectures such as posts, helices, and chevrons with control over nanoscale film features. Argon bombardment during deposition modifies the GLAD process, producing films with new morphologies which have shown promise for sensing and photonic devices. The authors report modification of column tilt angle, film density, and specific surface area for 12 different metal oxide and fluoride film materials deposited using Ar-assisted GLAD. For the vapor flux/ion beam geometry and materials studied here, with increasing argon flux, the column tilt increases, film density increases, and specific surface area decreases. With a better understanding of the nature of property modification and the mechanisms responsible, the Ar-assisted deposition process can be more effectively targeted towards specific applications, including birefringent thin films or photonic crystal square spirals. © 2012 American Vacuum Society.
Date de publication
Langueanglais
AffiliationConseil national de recherches Canada (CNRC-NRC); Institut national de nanotechnologie
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC21270232
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Identificateur de l’enregistrement4ee0f305-ea98-493a-af2c-b28a345f33a5
Enregistrement créé2014-01-14
Enregistrement modifié2016-05-09
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